Ионно-сорбционная откачка
Дисциплина: Химия и физикаТип работы: Реферат
Тема: Ионно-сорбционная откачка
Ионно-сорбционная откачка .
При ионно-сорбционной откачке используют два способа поглощения газа : внедрение ионов в объем твердого тела под действием
электрического поля и химическое взаимодействие откачиваемых газов с тонкими пленками активных металлов .
твердое тело , проникают в него на глубину , достаточную
для их растворения .Этот способ удаления газа является разновидностью ионной откачки . На рис. 1 показано равновесное распределение концентрации при ионной откачке в объеме
неограниченной пластины толщиной
, рассоложенной внутри вакуумной камеры .
Максимальную удельную геометрическую быстроту ионной откачки можно рассчитать по формуле
(1) , где
– молекулярная концентрация газа .
Коэффициент внедрения учитывает частичное отражение и рассеивание , возникающее при ионной бомбардировке . Коэффициент
внедрения сильно зависит от температуры тела и слабо – от плотности тока и ускоряющего напряжения . Значение
наблюдается для Ti , Zn при 300 … 500 К .
Максимальное значение концентрации растворенного газа при ионной откачке можно определить из условия равновесия газовых потоков
(2) ( D – коэффициент диффузии газа в твердом теле ) . Градиенты концентраций определяются следующими
отношениями :
здесь
– глубина внедрения ионов (
поглощенного газа .
Так как величина
мала по сравнению с
( константа
/кВ ) , то величиной
Отсюда следует выражение для максимальной концентрации растворенного газа :
Если величина
блистер-эффекта .
В нержавеющей стали водородный блистер-эффект наблюдается при поглощение
3*Па/см
2 , что соответствует при быстроте откачки
3/(с*см
2) и давление
По известному значению
можно подсчитать общее количество газа , которое будет поглощено единицей поверхности
Во время ионной бомбардировки наблюдается распыление материала , сопровождающееся нанесением тонких пленок на электроды и
корпус насоса . Сорбционная активность этих пленок используется для хемосорбционной откачки .
Распыление активного материала может осуществляться независимо от процесса откачки , например с помощью регулирования
температуры нагревателя . Расход активного материала в таких насосах осуществляется независимо от потока откачиваемого газа .
Более экономно расходуется активный металл в насосах с саморегулированием распыления . В этих насосах распыление производится
ионами откачиваемого газа , бомбардирующими катод , изготовленный из активного материала . Распыляемый материал осаждается на корпус и анод , где осуществляется хемосорбционная откачка
Рис1. Установившееся распределение концентрации в неограниченной пластине , бомбардируемой высокоэнергетическими ионами .
Оглавление
TOC o \"1-1\" Ионно-сорбционная откачка ....................................... PAGEREF _Toc9692035 h 1
Рис1. Установившееся распределение концентрации в неограниченной пластине , бомбардируемой высокоэнергетическими ионами ............................ PAGEREF _Toc9692036 h 3
Оглавление................................................................................ PAGEREF _Toc9692037 h 4
Используемая литература :............................................ PAGEREF _Toc9692038 h 5
Используемая литература :
Л.Н. Розанов . Вакуумная техника .
Москва « Высшая школа » 1990 .
{ Slava KPSS }
Язык: Русский
Скачиваний: 91
Формат: Microsoft Word
Размер файла: 21 Кб
Автор:
Скачать работу...