Технология эпитаксиальных пленок InAs

    Дисциплина: Технические
    Тип работы: Реферат
    Тема: Технология эпитаксиальных пленок InAs

    Московский Государственный

    Технический Университет

    им. Н. Э. Баумана

    Калужский филиал

    КАФЕДРА МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЯ И МАТЕРИАЛОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ

    Курсовая работа

    по курсу:” Технология материалов электронной техники”

    ТЕМА

    ” Арсенид индия. Свойства, применение. Особенности получения эпитаксиальных пленок.”

    Выполнил: Тимофеев А. Ю.

    Группа: ФТМ-71

    Проверил: Кунакин Ю. И.

    г. Калуга

    1996 год

    Содержание

    Введение.

    Электрофизические свойства объемного арсенида индия.

    Зонная структура арсенида индия.

    Оптические свойства арсенида индия.

    Подвижность в арсениде индия.

    Методы глубокой очистки индия и мышьяка.

    Методы глубокой очистки индия.

    Методы получения мышьяка и его соединений высокой

    степени чистоты.

    Эпитаксиальное наращивание арсенида индия

    из газовой фазы

    Система In-AsCl

    Система In-HCl-AsH

    Система InAs-SiCl

    Пиролиз МОС.

    Жидкофазная эпитаксия арсенида индия.

    Молекулярно лучевая эпитаксия арсенида индия.

    Заключение.

    Список использованной литературы.

    Введение.

    Эпитаксиальный арсенид индия - перспективный материал электронной техники. Высокая подвижность электронов в арсениде индия прямозонная структура позволяют использовать его для

    изготовления высокоэффективных электронных и оптоэлектронных приборов, в частности быстродействующих транзисторов и интегральных схем, фотоприемных детекторов ИК - диапазона,

    инжекционных лазеров с длиной волны

    3,5 мкм.

    Однако широкое использование тонкопленочных структур арсенида индия сдерживается отсутствием полуизолирующих подложек в связи с малой шириной запрещенной зоны арсенида индия.

    Следует также отметить недостаточную механическую прочность материала. Указанные проблемы могут быть преодолены, по крайней мере частично,

    при гетероэпитаксиальном выращивании арсенида индия. В этом случае, как правило, эпитаксию проводят на подложках арсенида галлия с ориентацией поверхности

    (001).

    Значительное рассогласование параметров решеток арсенида индия и арсенида галлия 7.4% приводит при получении гетероэпитаксиальных пленок

    арсенида индия и арсенида галлия методами газотранспортной и жидкофазной эпитаксии к формированию переходного слоя значительной толщины и к большей плотности

    морфологических и структурных дефектов. Это обусловлено ограничениями как физического характера, присущим данным эпитаксиальным технологиям, так и ограничениям, связанными с

    “ненаблюдаемостью” процесса роста.

    Электрофизические свойства объемного арсенида индия.

    Зонная структура арсенида индия.

    Зона проводимости.

    Арсенид индия является прямозонным полупроводником, у которого зона проводимости сферически симметрична и минимум ее находится в центре зоны Бриллюэна. Вблизи минимума кривизна

    зоны велика, вследствие чего эффективная масса электрона очень мала и равна m

    0.026 m

    Зона проводимости имеет не-параболичную форму, кривизна ее уменьшается с увеличением энергии. Экспериментальные результаты подтверждают непараболичность зоны проводимости.

    Измерение эффективной массы на поверхности уровня Ферми, приведенное для образцов с различной концентрацией электронов, показало увеличение эффективной массы с ростом n-кол-личеством

    носителей заряда (рис.1).

    Рис.1.

    Зависимость эффективной массы электрона от концентрации электронов.

    Валентная зона.

    Расчеты зоной структуры валентной зоны показали, что зона тяжелых дырок состоит из двух подзон, сдвинутых относительно точки

    б .

    В максимумах энергии не более чем на 0.006 эВ превышает энергию, соответствующую центру зоны Бриллюэна. Зона легких дырок вырождена с зоной тяжелых дырок при

    Ширина запрещенной зоны E

    g=0.35 эВ (300 К)

    Температурная зависимость E

    g=(0.44-2.8

    -4T)эВ

    Эффективная масса электрона m

    *=0.026 m

    Эффективная масса тяжелой дырки m

    *=0.41 m

    Эффективная масса легкой дырки m

    *=0.025 m

    Эффективная масса дырки в зоне

    спин-орбитального расщепления m

    *=0.083 m

    Энергия спин-орбитального расщепления

    g=0.43 эВ.

    Оптические свойства арсенида индия.

    Наибольший практический интерес представляет спектральный диапазон в близи края собственного поглощения. Именно в этой области длин волн (3-5 мкм) работают фотоприемники,

    изготовленные из эпитаксиальных структур арсенида индия.

    Поглощение света в толстом полупроводника может быть описано выражением

    0(1-k)

    exp(-

    где I

    0 - интенсивность падающего излучения, k - коэффициент отражения,

    - коэффициент поглощения, X - координата.

    Величина коэффициента отражения в близи края собственного поглощения не превышает 30-40% и может быть оценена из выражения

    где

    n - показатель преломления.

    В полупроводниках, как правило, одновременно работает несколько механизмов поглощения света. Основные из них:

    собственное или фундаментальное поглощение;

    эксионное;

    поглощение свободными носителями;

    решетчатое;

    внутризонное.

    Полный коэффициент поглощения в случае одновременного участия нескольких механизмов поглощения равен:

    В указанном диапазоне длин волн 3-5 мкм и обычно используемой области температур 77-300 К работает в основном два механизма: собственное поглощение и поглощение на свободных

    носителях. В области собственного поглощения прямозонная структура арсенида индия обуславливает резкую зависимость коэффициента поглощения от энергии:

    где e - заряд электрона, h - постоянная Планка, с - скорость света. В арсениде индия n-типа величина Е

    g=0.35 эВ при Т=300 К, а показатель степени в выражении для

    =0.85 n=1,

    в материале р-типа Е

    g=0.36 эВ, а n=0.5.

    В легированных образцах за счет малой эффективной массы электронов с увеличением концентрации носителей происходит быстрое заполнение зоны проводимости электронами, в следствии

    чего уровень Ферми находится выше дна зоны проводимости на величину энергии

    n. В этом случае коэффициент поглощения описывается выражением

    т.е. происходит сдвиг края поглощения в сторону больших энергий.

    Поглощение на свободных носителях в области длин волн, превышающих 3 мкм, хотя слабее, чем собственное, тем не менее может играть значительную роль в сильно легированных образцах.

    В этом случае

    описывается выражением

    где n - показатель преломления,

    - проводимость,

    - длина волны,

    Оценки показывают, что при

    =3 мкм и n=10

    18 см

    -3 в пластине арсенида индия толщиной 400 мкм поглотится около 80% светового потока.

    Подвижность в арсениде индия.

    Подвижность носителей заряда в кристаллах арсенида индия ограничивается несколькими механизмами рассеивания:

    рассеянием на оптических и акустических фононах;

    на ионных примесях;

    на нейтральных примесях:

    на дефектах кристаллической решетки (дислокациях):

    на носителях заряда.

    В приближении времени релаксации

    подвижность вычисляется по формуле

    где

    - вычисляется для каждого механизма рассеивания отдельно.

    В монокристаллических объемных образцах арсенида индия достигнуты следующие значения подвижности:

    n-тип,

    =30000 см

    2/Вс(300К),

    р-тип,

    =450 см

    2/Вс(300К).

    Сростом концентрацией примесей подвижность падает.

    Методы глубокой очистки индия и мышьяка.

    Для получения монокристаллов арсенида индия с высокими и стабильными электрофизическими параметрам...

    Забрать файл

    Похожие материалы:


    Добавить комментарий
    Старайтесь излагать свои мысли грамотно и лаконично

    Введите код:
    Включите эту картинку для отображения кода безопасности
    обновить, если не виден код



ПИШЕМ УНИКАЛЬНЫЕ РАБОТЫ
Заказывайте напрямую у исполнителя!


© 2006-2016 Все права защищены